원리 및 이론
VDD series 희석장치는 고농도의 액체에어로졸(liquid drop) 를 희석하는 목적으로 사용이 되어진다.
VDD series 에서 유입되는 에어로졸의 유량은 MFC 를 이용을 하여 조절이 되어진다.
MFC 는 외부조절장치에 연결되어져 유량조절을 조절이 가능하다.
MFC 를 이용을 하여 welas digital 과 Promo 등의 측정장비와 연결하여 사용이 가능하다.
VDD series 의 희석배수는 0-10 사이에서 조절이 가능하다.
주요특징 및 장점
- VDD 희석을 통하여 에어로졸의 손실이나 크기변화를 최소화시킨다.
- MFC 를 이용하여 유량을 지속적으로 정밀하게 조절한다.
- Palas 희석장치는 명확한 희석배율로 희석을 시켜준다. (각각의 장비에 대한 calibration certificate 를 같이 제공)
- 희석배율은 10, 100, 1000,10000 등의 비율로 제공이 되어진다.
- 낮은 압축 공기 소모량 : VKL 10 네대를 이용시에는 128 lpm 의 유량이 소요됨.
- 희석절차는 일반적인 파티클카운터와 같이 사용이 가능하다.
- 사용자가 직접연결하여 사용이 가능하다.
- VKL 10 E, VKL 10 ED, KHG 10 and KHG 10 D dilution systems 등의 모델을 이용하므로써 10bar 까지의
등압희석 (Iso baric dilution) 120C 까지의 등온희석(Isothermal dilution) 이 가능하다.
응용분야
- 큰 사이즈의 고농도입자를 희석 (Dilution of highly concentrated large aerosol droplets)
제품사양
- 고농도의 액체에어로졸(liquid drop) 을 10 배 희석